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英飛凌推出下一代碳化硅技術(shù)CoolSiC? MOSFET G2 推動脫碳的高性能系統(tǒng)

蓋世汽車

蓋世汽車訊 3月5日,英飛凌科技股份公司(Infineon Technologies AG)推出下一代碳化硅(SiC)MOSFET 溝槽技術(shù),開啟電力系統(tǒng)和能源轉(zhuǎn)換的新篇章。與上一代產(chǎn)品相比,新型英飛凌CoolSiC? MOSFET 650 V和1200 V第2代將MOSFET的關(guān)鍵性能指標(例如存儲能量和電荷)提高了20%,且不影響質(zhì)量和可靠性水平,從而提高了整體能源效率,并進一步推動脫碳進程。

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英飛凌推出下一代碳化硅技術(shù)CoolSiC? MOSFET G2 推動脫碳的高性能系統(tǒng)

來源:第一電動網(wǎng)

作者:蓋世汽車

本文地址:http://www.vlxuusu.cn/news/shichang/221689

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